上海市纳米中心张剑平博士举行博士后科研工作中期报告会

为了进一步加强中心博士后科研工作站建设，规范博士后研究人员在站期间的管理，正确评估博士后研究人员的工作，上海市纳米中心博士后工作站于 2009年10月20日举行了张剑平博士在站工作情况中期报告会。中心闵国全主任、上海大学施利毅教授和中科院上海微系统所宋志棠教授组成专家组参加了本 次报告会。

会上，张剑平博士介绍了自己进站一年来的工作情况，从制定详细的研究方案，到完成实验方案设计、研究方法和研究路线，到原材料和仪器的采购等工作环 节做了细致的介绍。张博士针对纳米压印过程三大步骤旋涂、压印和刻蚀工艺要求，提出所研制的光刻胶必须符合的7个重要指标。对组成的光刻胶各种原料如预聚 体、单体、光引发剂、溶剂和助剂进行了全面的实验筛选，经过大量实验，目前所研制的光刻胶已达到旋涂均匀平整，压印图形质量在微米级和亚纳米级都能符合指 标要求。在站的一年时间里，张博士同时还主持了上海市博士后基金重点项目“紫外纳米压印光刻胶的研制”（项目编号：09R21420200），目前该项目 进展顺利。

本次报告会专家组认为张剑平博士选题正确，意义重大，提出了紫外纳米压印专用光刻胶的具体参数，在光刻胶材料研制方面作了一些创新工作，实验工作量 大，承担了相应的科研项目，取得了阶段性成果。并希望在下一阶段工作中，尤其是进一步完善光刻胶的配方和工艺，探索材料结构和性能对质量的影响规律，在纳 米级图形的复制等方面取得突破，取得高质量的科研成果。

鉴于张剑博士再站期间对科研事业的执着追求和对待工作的一腔热诚，尤其是在光刻胶研究上取得的重要进展等，考评小组认为张剑平完成了中期考核的评定任务，一致同意给予优秀评级。